Spin Processor旋涂勻膠機產(chǎn)品特點

v 采用閉環(huán)控制伺服電機，數(shù)字式增速信號反饋，速勻準(zhǔn)確，壽命長，保證勻膠的均一性。

v 5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標(biāo)配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設(shè)置），可選配10個可編程程序，每個程序下可設(shè)置10個勻膠梯度階段，z多100個階段。

v 內(nèi)置水平校準(zhǔn)裝置，大限度的保證旋涂均勻，可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。

v 多重安全保護:

» 電磁安全開關(guān)，蓋子打開卡盤停止，保證安全；

» 蓋子自鎖功能，防止飛片蓋彈開傷人；

» 雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，大限度保證實驗人員安全。

v 樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護，有效降低電機進膠的風(fēng)險。

v 一機兩用，根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。

v 符合人體功能學(xué)的水平取放樣品旋涂托盤設(shè)計，取放樣品更方便。

v 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。

v 上下雙腔體設(shè)計，較大的上腔體便于擦拭去除膠液，錐形下腔體結(jié)構(gòu)設(shè)計便于收集膠液，并帶廢膠收集裝置

v 可選氮氣吹干、氮氣保護，自動滴膠或簡易滴膠裝置，提供更多的操作便利性。

v 適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP 等多種材料。

　　勻膠機是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實驗室設(shè)備，它的原理相對比較簡單，利用電機高速旋轉(zhuǎn)時所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面，顧名思義，一種可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。勻膠機有很多稱謂，勻膠臺，旋轉(zhuǎn)涂膜機，旋轉(zhuǎn)涂層機或者旋轉(zhuǎn)涂敷機等等，它的英文是Spin Processor：旋轉(zhuǎn)涂膜的意思。

　　勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因為在基片旋轉(zhuǎn)的階段，光刻膠就開始干燥（溶劑揮發(fā)）了。所以準(zhǔn)確控制加速度很重要。在一些勻膠過程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過程開始的幾秒鐘內(nèi)揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經(jīng)由前面工序留下來的精細(xì)圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力（twisting force）,這個扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。

Spin Processor旋涂勻膠機技術(shù)參數(shù)